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當前位置：首頁 >產品中心>實驗室設備>化學發(fā)光成像系統(tǒng)>HD-HN1000化學發(fā)光成像儀
詳細介紹
| 品牌 | 霍爾德?電子 | 光學鏡頭 | 標配F0.8高清大光圈高通透定焦鏡頭 |
|---|---|---|---|
| 動態(tài)范圍 | 4.6個數量級 | 價格區(qū)間 | 10萬-20萬 |
| 儀器種類 | 化學發(fā)光凝膠成像 | 產地類別 | 國產 |
| 應用領域 | 化工 |
一、產品介紹：
化學發(fā)光成像儀，搭載更高效率相機及相應硬件配置，成像速度更快，畫質更好。并且機箱面板配有一鍵拍攝按扭，無需軟件操作，即可進行一鍵拍攝，得到優(yōu)質的曝光圖片。
二、化學發(fā)光成像儀應用范圍：
化學檢測：WesternLighting、ECL、ECLplus、CDPStar、SuperSigal、CSPD、LumiGlo等發(fā)光底物。
三、產品特點：
1、600萬高分辨率相機和高靈敏度鏡頭,保證高質量的成像效果。
2、機身采用抗沖擊性、耐熱性、耐低溫材料，抽屜式開門設計，節(jié)省空間，簡化操作步驟，并且保證了密閉性。
3、一鍵拍攝,無需摸索曝光時間自動進行預估、拍攝。
四、技術參數：
體積小巧，節(jié)省實驗空間，整機尺寸僅340*375*600(L×W×H)；
相機：深度制冷科研級CCD
有效像素：2688×2200(600萬)
像素合并：1×1，2×2，4×4，6×6，8×8，12×12，16×16
像素密度：16bit(0～65536灰階）
像素點大小：4.54×4.54μm
感光效率：75%
動態(tài)范圍：4.6個數量級
暗電流:<0.0005e-/pixel/sec.@-40oC
制冷方式：半導體制冷
制冷溫度：可低于環(huán)境溫度75℃，軟件界面實時顯示
鏡頭:標配F0.8高清大光圈高通透定焦鏡頭
落射白光：兩側LED白光
樣品臺：抽屜內嵌可自由取放特制發(fā)光底板，便于放膜、加光發(fā)液，方便操作
拍攝面積：16x16cm
電腦控制：高度程序化，集成軟件系統(tǒng)，對設備進行控制及參數設置
定時關燈：1-60分鐘無操作關閉光源
結構：密閉無光泄露，微處理器控制暗箱
五、智能軟件:
1、軟件兩種登陸模式，免密登陸和多用戶密碼登陸。可設置權限，便于操作管理。
2、圖像拍攝：光源/鏡頭/相機控制，自動/手動曝光、自動/手動對焦、圖像拍攝、圖像管理
3、圖像處理：調整亮度、對比度、Gamma、圖像旋轉、圖像反色、圖像裁切、圖像縮放,圖像染色、圖像合并
4、兩種拍攝模式：單張、多張，滿足不同用戶的使用習慣，可選擇是否拍攝Marker，可更改圖像顯示格式；多張模式設有自動（5連拍、10連拍）、手動多張拍攝（不限張數）、信號累積模式拍攝。
5、一鍵式成像，無需調整曝光參數，簡化成像操作；可框選特定區(qū)域，對選定區(qū)域進行自動預估、曝光，提升自動曝光精準度。
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